以下の装置をご利用いただけます。下記以外にも本学が保有する装置もご利用可能です。
<目的別に絞り込む>
| 仕様 | 芝浦エレテックCFS-4ES
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | 成果報告書 09-04 |
| 仕様 | スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置 |
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | Ultratech/Cambridge Nano Tech, Fiji F200
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 | 参考文献 |
| 仕様 | ULVAC製VPC-260F型
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 | (1)アンモニア過水（APM）洗浄 (2)塩酸過水（HPM）洗浄 (3)希フッ酸（DHF）洗浄 (4)硫酸過水（SPM）洗浄 (5)FPM cleaning各種ウェットエッチング 等 |
| 仕様 | 横型および縦型、酸化?拡散炉一式
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  酸化したSiマイクロ流路を利用したマイクロプラズマの点灯 |
| 仕様 | VARIAN 200CF4
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  アモルファスSiにドーピングして作った振動子 |
| 仕様 | （株）大日本科研 MX-1204 φ4インチにポジ型フォトレジスト（膜厚1μm以上）に、2μm幅のラインアンドスペースを全面（外周3mm除く）に描いたときに、描画時間が30分程度。露光パターン幅のバラツキが100nm(1σ)以下。 |
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | ズース?マイクロテック MA6 裏面アライメント可能、共和理研K-359SDコーター、ベーキング、露光、現像装置一式 |
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | 成果報告書 08-01 レジストプロセスの解説 |
| 仕様 | 特注（VICインターナショナル、VPA-100改造）材料制限は少ない（要相談）、φ4インチまで、UVキュア処理装置（自作）と合わせて使う。 |
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  UVキュアを用いて作ったレジスト膜の多段構造 |
| 仕様 | サムコ RIE-10NR
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  エッチングで形成したマクロ流路 成果報告書 10-30,10-31 |
| 仕様 | 住友精密工業 Multiplex-ASE-SRE-SE
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | 成果報告 11-15 |
| 仕様 | 自作（シリコンMEMS用の犠牲層SiO2エッチング）
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  基板から浮いた振動子構造 |
| 仕様 | 日立IM-4-1
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | 岡本工作ADM-6DBV
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  様々なウエハのダイシング各種支援に使用 |
| 仕様 | 日本電子、JSM-6510、電子線誘起電流(EBIC)計測付属
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | 日本電子FESEM JSM6500Fに東京テクノロジーのBEAM DRAWを付加した電子線描画装置。最小描画線幅50nm |
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 |
ブルカー Multimode顕微鏡 |
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | Keyence VHX-600および、フリーアングル（斜め）低倍観察VH-5500など
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  3次元的な形状?加工の評価 |
| 仕様 | Zygo社 NewView 7300 システム（含：フィルム、動的オプション）白色干渉計
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例 |  太鼓状マイクロミラー回転の様子 |
| 仕様 | エヌピイエス社Σ-5+
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | 成果報告書 11-03 |
| 仕様 | SEMILAB-SDI社 PV-2000A
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | 成果報告書 08-19,08-25 |
| 仕様 | ネオアーク製偏光顕微鏡（極Kerr、縦kerr効果）
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | SII-NT製SPA400
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | 成果報告書 10-28 |
| 仕様 | レニショー inVia Reflex
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | 印加磁界 最大±2Ｔ 試料温度 室温～250度、室温～－77度 測定感度 10＾－3度 波長範囲 260nm～800nm |
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
| 仕様 | 浜松ホトニクス社製 C9920-02G
|
|---|---|
| 支援例、微細加工例（支援年度、支援番号） | -- |
